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发布日期:2021年06月24日

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光刻设备・液晶面板曝光设备

【近场衍射】高精度屏幕曝光设备(光刻设备)

集结实现高精度的特征和性能

  • 特征
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  • 搭载真空系统,减少屏幕的歪斜
  • 特别设计的光学系统,提高配合度
  • 采用平行光系统,提高寸法精准度
  • 控制热量对于屏幕的影响,采用排热设计
  • 搭载高精度的积算光量计,提高反复曝光的安定化
  • 通过独自的真空系统,小体型也可以完成大尺寸的曝光



规格:

     

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烧印有效尺寸 1,190*850㎜

Max尺寸

1,000*1,000㎜
中心初期照度 6mW/c㎡以上
照度分布 80%以上

       

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